膜厚測量儀

簡要描述：膜厚測量儀本設備利用反射干涉的原理進行無損測量，測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時提供樣品反射率，測量精度達到埃級的分辨率，測量迅速，操作簡單，界面友好，測量時間不到1秒。可應用于光阻、半導體材料、高分子材料等薄膜層的厚度測量，在半導體、太陽能、液晶面板和光學行業以及科研院所和高校都得到了廣泛的應用和極大的好評。

基礎信息

產品型號

CGSR系列

廠商性質

生產廠家

更新時間

2025-05-22

瀏覽次數

2099

產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

膜厚測量儀器

光學膜厚測量儀

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膜厚測量儀在多個領域發揮著重要作用

洞察微觀，精準測厚：膜厚測量儀的技術與應用

膜厚測量儀：微觀世界的精密標尺

勻膠機在半導體及精密器件制造中的應用與操作要點

詳細介紹

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膜厚測量儀測量系統規格：

基本功能：獲取薄膜厚度值以及R、N/K等光譜

光譜分析范圍：380nm-1000nm

測量光斑大?。簶藴?.5mm，最小0.5mm

膜厚重復性測量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2樣件，100次重復測量）

膜厚精度：0.2%或2nm之間較大者

膜厚測量范圍：15nm-70μm

測量n和k值厚度要求：100nm以上

單點測量時間：≤ 1s

光源：標準鹵燈光源（光源壽命2000小時）

分析軟件：多達數百種的光學材料常數數據庫，并支持用戶自定義光學材料庫；提供多層各向同性光學薄膜建模仿真與分析功能

膜厚測量儀樣品臺規格：

基板尺寸：支持樣件尺寸到150*150mm(可升級定制不同尺寸樣品臺)

測控與分析軟件

光譜測量能力：反射率光譜測量

數據分析能力：膜厚分析能力，光學常數（折射率和消光系數）

支持常用光學常數模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等）

支持用戶自定義，可離線分析軟件模擬實際測量，支持Windows 10操作系統

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