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產品應用：
MAS4-BE光刻系統一體機可實現一機多用，集成化程度更高，占地面積更小。廣泛應用于高校研究所實驗的光刻工藝，可完成涂膠、烘烤、曝光、顯影工序。
工藝步驟：
涂膠（放片、滴膠、旋轉、取片）→烤機（放片、烘烤、取片）→曝光（放片、曝光、取片）→顯影（放片、旋轉顯影和水洗、取片）→取片（轉移下道工序）。
控制系統
控制系統由PC和PLC控制模式，實時顯示設備運行過程中各工藝功能執行情況。 可實現自由的配方編輯，自由修改、編輯、存儲、及調用工藝配方等。
技術參數：
曝光系統一體機 | 外觀 | 不銹鋼 | 曝光
| 曝光模式：接觸式一次曝光 |
處理尺寸 | ≤Ф102mm | 光源： 4"LED 專用曝光頭 | ||
涂膠 | 轉速：20-10000RPM | 紫外光中心波長：365nm | ||
加減速度：350-10000RPM/S | 操作方式：手動 | |||
編程：50組20步 | 顯影 | 轉速：20-3000 R.P.M | ||
烤膠 | 溫度：RT~300℃ | 擺臂：自動 | ||
面板材質：鋁合金 | 配置：一路顯影、一路水 |
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UV-8紫外臭氧清洗機
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