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測量系統規格
基本功能：獲取薄膜厚度值以及R、N/K等光譜
光譜分析范圍：380nm-1000nm
測量光斑大小：標準1.5mm，最小0.5mm
膜厚重復性測量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2樣件，100次重復測量）
膜厚精度：0.2%或2nm之間較大者
膜厚測量范圍：15nm-70μm
測量n和k值厚度要求：100nm以上
單點測量時間：≤ 1s
光源：標準鹵燈光源（光源壽命2000小時）
分析軟件：多達數百種的光學材料常數數據庫，并支持用戶自定義光學材料庫；提供多層各向同性光學薄膜建模仿真與分析功能
樣品臺規格：
基板尺寸：支持樣件尺寸到150*150mm(可升級定制不同尺寸樣品臺)
測控與分析軟件
光譜測量能力：反射率光譜測量
數據分析能力：膜厚分析能力，光學常數（折射率和消光系數）
支持常用光學常數模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等）；
支持用戶自定義，可離線分析軟件模擬實際測量，支持Windows 10操作系統
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